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D8 ADVANCE X射线衍射仪

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D8 ADVANCE X射线行射仪,采用创造性的达芬奇设计,通过TWIN-TWIN光路设计,成功实现了BB聚焦几何下的定性定量分析和平行光几何下的薄膜掠入射GID分析、薄膜反射率XRR分析的全自动切换,而无需对光。通过TWIST TUBE技术,使用户可以在1分钟内完成从线光源应用到点光源应用的切换,让烦人的光路互换,重新对光等问题从此成为历史

主要功能:
TWIN/TWIN 光路
动态光束优化(DBO)
LYNXEYE XE-T

应用:
物相定性分析、结晶度及非晶相含量分析、结构精修及解析、物相定量分析、
点阵参数精确测量,无标样定量分析,微观应变分析,晶粒尺寸分析,原位分析。
残余应力,低角度介孔材料测量,织构及ODF分析,薄膜掠入射,薄膜反射率测量。小角散射。
在线客服
产品(pin)详情

D8 ADVANCE X射线行(xing)射仪,采用(yong)创造性(xing)的(de)达芬奇设(she)计(ji),通过TWIN-TWIN光路设(she)计(ji),成功实(shi)现了(le)BB聚焦几何下(xia)的(de)定性(xing)定量分析和平行(xing)光几何下(xia)的(de)薄(bo)膜掠入射GID分析、薄(bo)膜反射率XRR分析的(de)全自动切换(huan),而无需对光。通过TWIST TUBE技术,使用(yong)户可以在1分钟内完成从(cong)线光源(yuan)应(ying)(ying)用(yong)到点光源(yuan)应(ying)(ying)用(yong)的(de)切换(huan),让烦人的(de)光路互(hu)换(huan),重新(xin)对光等(deng)问题从(cong)此成为历史


主要功能:

TWIN/TWIN 光路

动态光束优化(DBO)

 LYNXEYE XE-T


应用:

物(wu)相(xiang)(xiang)定(ding)性分析(xi)(xi)、结晶度(du)及(ji)非晶相(xiang)(xiang)含量(liang)分析(xi)(xi)、结构精修及(ji)解析(xi)(xi)、物(wu)相(xiang)(xiang)定(ding)量(liang)分析(xi)(xi)、

点阵参数精确(que)测量,无(wu)标样定(ding)量分(fen)析,微观(guan)应变分(fen)析,晶粒尺寸(cun)分(fen)析,原位分(fen)析。

残余应(ying)力,低(di)角度介(jie)孔材料(liao)测量,织构及(ji)ODF分析,薄膜(mo)掠入射(she),薄膜(mo)反射(she)率测量。小角散(san)射(she)。


D8 ADVANCE X射线衍射仪
D8 ADVANCE X射线行射仪,采用创造性的达芬奇设计,通过TWIN-TWIN光路设计,成功实现了BB聚焦几何下的定性定量分析和平行光几何下的薄膜掠入射GID分析、薄膜反射率XRR分析的全自动切换,而无需对光。通过TWIST TUBE技术,使用户可以在1分钟内完成从线光源应用到点光源应用的切换,让烦人的光路互换,重新对光等问题从此成为历史

主要功能:
TWIN/TWIN 光路
动态光束优化(DBO)
LYNXEYE XE-T

应用:
物相定性分析、结晶度及非晶相含量分析、结构精修及解析、物相定量分析、
点阵参数精确测量,无标样定量分析,微观应变分析,晶粒尺寸分析,原位分析。
残余应力,低角度介孔材料测量,织构及ODF分析,薄膜掠入射,薄膜反射率测量。小角散射。
0592-5663715
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产品详情

D8 ADVANCE X射线行(xing)射仪,采用创造性的(de)(de)达芬奇(qi)设(she)计(ji),通(tong)(tong)过TWIN-TWIN光路(lu)设(she)计(ji),成功实现了BB聚焦几(ji)何(he)下的(de)(de)定(ding)性定(ding)量分析(xi)(xi)和平行(xing)光几(ji)何(he)下的(de)(de)薄膜掠入射GID分析(xi)(xi)、薄膜反(fan)射率XRR分析(xi)(xi)的(de)(de)全自动(dong)切换(huan)(huan),而(er)无需对光。通(tong)(tong)过TWIST TUBE技术(shu),使(shi)用户可以在1分钟内完(wan)成从线光源应用到点(dian)光源应用的(de)(de)切换(huan)(huan),让烦人的(de)(de)光路(lu)互(hu)换(huan)(huan),重新对光等问题从此成为历史


主要功能:

TWIN/TWIN 光路

动态光束优(you)化(hua)(DBO)

 LYNXEYE XE-T


应用:

物(wu)相定性分(fen)析、结晶度及非晶相含量分(fen)析、结构精修及解(jie)析、物(wu)相定量分(fen)析、

点(dian)阵参数精(jing)确(que)测量,无标样定量分(fen)析,微观应变分(fen)析,晶粒(li)尺寸分(fen)析,原位分(fen)析。

残余应(ying)力,低角度介孔材料测(ce)量,织构及(ji)ODF分析,薄(bo)膜(mo)(mo)掠(lve)入射,薄(bo)膜(mo)(mo)反射率测(ce)量。小角散(san)射。


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